Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD)
Co to jest PVD?
Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) to technologia, która w warunkach pró?ni wykorzystuje metody fizyczne do odparowania sta?ych lub ciek?ych materia?ów do postaci gazowych atomów, cz?steczek lub cz??ciowo zjonizowanych jonów. S? one nast?pnie osadzane na powierzchni pod?o?a w procesie gazowym (lub plazmowym) pod niskim ci?nieniem, tworz?c cienk? warstw? o okre?lonych funkcjach.
Technologia PVD mo?e osadza? nie tylko folie metalowe i stopowe, ale tak?e folie z?o?one, ceramiczne, pó?przewodnikowe i polimerowe. Jest to stosunkowo nowa technologia obróbki powierzchni.
FirstMold wykorzystuje technologi? PVD (za po?rednictwem wspó?pracuj?cych dostawców) g?ównie w scenariuszach form plastikowych, form odlewniczych i prototypów CNC
Aplikacje bran?owe
Technologia ubieralna
Komunikacja mobilna
Bi?uteria metalowa
Akcesoria sprz?towe
Komponenty motoryzacyjne
Urz?dzenie medyczne
Przemys? form
Przemys? zegarmistrzowski
Zalety anodowania dla produktu
Wysoka twardo??
Pow?oka niklowa: 180HV
Aluminium: 100HV
Anodowanie: 300HV
Chromowanie: 800HV
PVD: 1600HV
Doskona?a przyczepno??
Cz??ci wykonane metod? PVD mog? by? wyginane o ponad 90 stopni bez p?kania lub ?uszczenia si?, co jest lepszym rozwi?zaniem ni? w przypadku innych technik, takich jak galwanizacja i natryskiwanie.
Estetyczny wygl?d
Pow?oki s? dost?pne w ró?nych kolorach, s? równomiernie i jednolicie zabarwione, maj? g?adk? i delikatn? powierzchni?, posiadaj? metaliczny po?ysk i nigdy nie blakn?
Trwa?a powierzchnia
Odporny na zarysowania, trudny do zarysowania, nie ?uszczy si? ani nie p?ka ?atwo. Odporny na korozj?, kwasy i utlenianie.
Przyjazny dla ?rodowiska
Chocia? proces produkcji emituje gazy odlotowe, które wymagaj? filtracji, zasadniczo mie?ci si? w kategorii zielonej produkcji.
Cena fizycznego osadzania z fazy gazowej
| Proces PVD | Opis | Cena |
|---|---|---|
| Powlekanie jonowe | Wykorzystuje wi?zk? jonów o wysokiej energii do osadzania materia?u na pod?o?u, cz?sto u?ywanego do twardych pow?ok. | $$ |
| Odparowanie wi?zk? elektryczn? | Wykorzystuje wi?zk? elektronów do podgrzania materia?u, który nast?pnie odparowuje i osadza si? na pod?o?u. | $$ |
| Osadzanie wspomagane wi?zk? jonów (IBAD) | Wykorzystuje wi?zk? jonów do wspomagania osadzania, zwi?kszaj?c przyczepno?? i g?sto?? pow?oki. | $$ |
| Rozpylanie | Wykorzystuje wi?zk? jonów do bombardowania materia?u, powoduj?c jego rozpylanie i tworzenie cienkiej warstwy na pod?o?u. | $ |
| Arc PVD | Wykorzystuje wy?adowanie ?ukowe do tworzenia g?stej warstwy na pod?o?u, cz?sto w przypadku pow?ok dekoracyjnych i funkcjonalnych. | $$$ |
| Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) | Wykorzystuje reakcje chemiczne do osadzania warstwy na pod?o?u, cz?sto do zastosowań pó?przewodnikowych i optycznych. | $$$ |
| Parowanie | Wykorzystuje ogrzewanie do odparowania materia?u, który nast?pnie osadza si? na pod?o?u, tworz?c cienk? warstw?. | $ |
| Chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazm? (PECVD) | Wykorzystuje plazm? do usprawnienia procesu chemicznego osadzania z fazy gazowej, poprawiaj?c jako?? folii. | $$$ |
PL 
EN 
ES 
FR 
DE 
IT 
PT 
NL 
AR 
JA 
KO 
ZH